Российский прорыв в производстве 65-нм микросхем: системы плазменного травления и осаждения.

В декабре 2025 года Россия объявила о значительном прорыве в производстве полупроводников: создании первых полностью разработанных внутри страны кластерных систем для плазмохимического травления и плазмохимического осаждения. Разработанные НИИМЕ и НИИТМ при Министерстве промышленности и торговли, эти системы поддерживают 65-нанометровую технологию и могут обрабатывать кремниевые пластины диаметром 200 и 300 мм, что ставит Россию в пятерку ведущих мировых разработчиков, способных создавать такое сложное оборудование.

В этом видео объясняется принцип работы плазмохимического травления и осаждения, почему вакуумные кластерные системы необходимы для наноразмерной точности и как этот прорыв снижает зависимость России от зарубежных производителей микросхем. Мы также рассматриваем стратегическое значение этих систем для обороны, автоматизации, промышленной электроники и будущих технологических узлов, таких как 28 нм и ниже.

В условиях рекордно высокого мирового спроса на полупроводники это событие знаменует собой поворотный момент для технологического суверенитета России. Несмотря на такие проблемы, как ограничения литографии и нехватка финансирования, новое оборудование закладывает основу для следующего поколения микроэлектроники и свидетельствует о намерении России расширить свое присутствие на глобальном технологическом рынке.

#Полупроводники #РоссияТехнологии #Микрочипы #65нм #ТехнологическиеНовости #ПлазменноеТравление #ПроизводствоЧипов #Электроника #НаукаИТеки #Инновации

Станьте участником и получите эксклюзивные привилегии -    / @altitudeaddicts  
Twitter: https://x.com/AltitudeAddicts
Веб-сайт: https://www.altitudeaddicts.com