全沒猜對！台積電2nm工藝逆天內幕猛遭爆料，數恐怖細節首次曝光震驚世人。這手藝對手真學不會：一個蝕刻步驟1P1E ，節省了多個EUV光罩。四年多的勞動成果N2：效能提升15%，功耗降低35%。

日前於美國舊金山舉行的 IEEE 國際電子設備會議IEDM上，台積電研發和先進技術副總裁Geoffrey Yeap披露了有關其 N2制程工藝的更多細節。據介紹，N2制程在相同電壓下可以將功耗降低 24% 至 35%，或將效能提高15%，電晶體密度比上一代 3nm 工藝高 1.15 倍。N2 制程在工藝和器件層面引入的創新不僅旨在通過細化片材厚度、結、摻雜劑活化和應力工程來提高電晶體驅動電流，還旨在降低有效電容 Ceff 以實現一流的能效。對於客戶來說，隨著台積電N2的量產，屆時2nm晶圓的代工報價可能將達到2.5萬至3萬美元/片，遠高於當前3nm晶圓約2萬美元/片的價格。

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