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打破垄断！国产光刻机用固体激光逆袭，深紫外路线不再是唯一选择
Автор: 木蘭故事匯
Загружено: 2025-12-05
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中国光刻机的重磅突破：一条国产湿法路线芯片产线良率稳定在 70%-75% 区间，且已完成 5nm 工艺小批量测试，其核心光源采用中科院全固态激光技术，成本仅为阿斯麦深紫外设备的三分之一。内容将从技术原理、行业格局、战略意义等维度，揭秘为何阿斯麦 25 年前放弃的技术路线能被国产团队玩出新花样，同时客观分析当前与顶尖水平的差距及未来突围路线，全程干货无废话，带你看懂国产半导体的逆袭逻辑。
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#国产芯片突围 #光刻机技术突破 #半导体自主可控 #科技强国 #湿法光刻逆袭
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