4. Basics of ALD 2 Precursor & Reactant
Автор: Han-Bo-Ram Lee
Загружено: 2019-06-26
Просмотров: 2818
Fundamentals and Applications of Atomic Layer Deposition, 2019 Spring
Contents: plasma reactant, various precursors, density functional theory calculation
Lecturer: Prof. Han-Bo-Ram Lee
hbrlee@inu.ac.kr
http://nanomaterial.kr
Доступные форматы для скачивания:
Скачать видео mp4
-
Информация по загрузке: