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西方震驚！中國已經造出第一台 EUV 光刻機原型機？中國曼哈頓計劃迎來重大突破！
Автор: 战争简史
Загружено: 2025-12-23
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2025年末，路透社披露的消息引发全球科技圈震动：中国科研团队已在深圳完成首台极紫外（EUV）光刻机原型机组装，标志着这场被外媒称为“中国曼哈顿计划”的半导体突围取得关键突破。作为芯片制造的“皇冠明珠”，EUV光刻机长期被荷兰ASML垄断，且受欧美技术封锁限制对华出口。
这台原型机采用与国际主流一致的激光等离子体技术路线，成功产生13.5纳米极紫外光，核心研发由华为牵头，整合了前ASML工程师与国内顶尖人才力量。尽管目前仍面临高精度光学反射镜、光束控制等关键技术瓶颈，暂未实现可用芯片量产，但已完成从0到1的核心突破，打破了“中国十年内无法掌握EUV技术”的预判。
按规划，该原型机将于2028年启动芯片试产，2030年推进量产。此次突破不仅重构全球半导体供应链格局，更证明中国通过自主生态构建与技术攻坚，正逐步瓦解高端设备领域的垄断壁垒，为国产先进制程芯片发展扫清关键障碍。#光刻机 #EUV光刻机 #中国科技
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