A técnica de XPS aplicada a ciência e engenharia de materiais

A técnica de XPS (Espectroscopia de Fotoelétrons Excitados por Raios-X) teve seu início nos anos de 1950 e desde então, passou por avanços tecnológicos bem como na compreensão dos fenômenos envolvendo a estrutura eletrônica de uma larga gama de materiais. Com o advento da nanotecnologia e com o aumento do estudo de propriedades relacionadas à superfície dos materiais, esta técnica se tornou ainda mais importante. Neste seminário, apresentaremos os conceitos básicos desta técnica, algumas aplicações e cuidados necessários em relação a realização de medidas e posterior análise de dados.

Prof. Dr. Valmor Roberto Mastelaro
Bacharel em Física e mestre em Física Aplicada pelo Instituto de Física de São Carlos (USP) e Doutorado em Ciências pela Universite Paris XI (Paris-Sud). Atualmente é professor associado MS-5, Nivel A3 do Instituto de Física de São Carlos. Tem experiência na área de Física, com ênfase no Estudo da Estrutura de Sólidos Cristalinos e Amorfos; atuando principalmente nos seguintes temas: Caracterização da estrutura local e eletrônica de Materiais Cerâmicos, Vítreos e óxidos Nanoestruturados, utilizando as seguintes técnicas: Espectroscopia de Absorção de Raios X (EXAFS-XANES), Difração de Raios X, Espectroscopia de Fotoelétrons Excitados por Raios-X (XPS. Realiza também cálculos ab-initio visando a interpretação de dados de Espectroscopia de Absorção de Raios-X e de Espectroscopia de Fotoelétrons Excitados por Raios-X (XPS). Linha de Pesquisa atual com foco em óxidos metálicos semicondutores aplicados como sensores de gases tóxicos.